離子注入技術是指在半導體晶圓表面摻雜硼、磷和砷等離子，從而改變其電氣特性和器件電導率，或使用非摻雜元素如鍺、碳，達到修改晶圓材料表面性質的目標。離子源是離子注入機中最核心的部件，主要由各種鎢、鉬部件組成。離子注入行業對于雜質元素的要求是非常嚴苛的，任何雜質元素的超標都有可能導致離子注入材料的污染和失效，因此離子注入用鎢材或鉬材必須首先滿足其對化學純度的嚴格要求。另外，密度也是一項重要的性能參考指標，這是因為離子源中的鎢材或鉬材零部件，在使用過程中大多會受到電子的轟擊或侵蝕。密度偏低會嚴重影響零部件的使用壽命。好的品質源于取材，歐泰稀材是國內較早實現工業化規模生產的半導體靶材級（純度超5N）高純鎢鉬粉末原料制造商，對于離子注入用鎢鉬部件，推薦客戶使用4N或5N級高純原料，經粉末冶金、鍛軋、精密機加工等工序制造而成。